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| AD-1200 |
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チャンバー |
ステンレス製 |
回転数 |
0〜3,000rpm |
基板サイズ |
φ1インチ〜φ6インチ
(150×150o) |
インターロック |
真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター |
薬液圧送 |
内蔵ポンプ使用 |
薬液吐出 |
スプレー吐出
(スイングノズル式) |
電源 |
AC100V 4A |
寸法(o)
ドア開放時 |
550W×440H×400D
740H |
ステップ数 |
96ステップ スキップ・コピー機能付き
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| プログラムモード |
10モード |
重量 |
33s |
| プロセス(標準) |
現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統 |
主要オプション |
薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台 |
| 使用薬液 |
アルカリ系現像液 |
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※仕様は予告なく変更する事がございます。 |
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【ディップ現像とスプレー現像の比較】 | |
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ディップ 3μm |
スプレー 3μm |
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| 主な装置及び材料 |
| @レジスト |
AZ P4620 |
| A現像液 |
AZ 400K |
| Bスピンコーター |
MS-A150 |
| C露光装置 |
MA-20 |
| D現像装置 |
AD-1200 |
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| プロセス条件 |
| @基板 |
φ4インチ シリコンウエハ |
| Aプライマリー処理 |
HMDS |
| B膜厚 |
>6μm |
| Cプリベーク |
100℃ 90sec |
| Dスプレー現像 |
60sec |
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※ポストベーク無し |
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| AD-3000 |
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チャンバー |
ステンレス製 |
回転数 |
0〜3,000rpm |
基板サイズ |
φ1インチ〜φ12インチ
(220×220o) |
インターロック |
真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター |
薬液圧送 |
加圧タンク圧送式 |
薬液吐出 |
スプレー吐出
(スイングノズル式) |
電源 |
AC200V 3相 15A |
寸法(o)
ドア開放時 |
720W×500H×520D
910H |
ステップ数 |
48ステップ スキップ・コピー機能付き
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| プログラムモード |
10モード |
重量 |
60s |
| プロセス(標準) |
現像液:1系統(2ノズル)
リンス:1系統(2ノズル)
バックリンス:1系統 |
主要オプション |
薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台 |
| 使用薬液 |
アルカリ系現像液 |
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※仕様は予告なく変更する事がございます。 |
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| ED-1200 |
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チャンバー |
PVC(塩ビ)製 |
回転数 |
0〜3,000rpm |
基板サイズ |
φ1インチ〜φ6インチ
(150×150o) |
インターロック |
真空吸着確認センサー
処理室カバーインターロック
ノズル移動オーバーラン
リミッター |
薬液圧送 |
内蔵ポンプ使用 |
薬液吐出 |
スプレー吐出
(スイングノズル式) |
電源 |
AC100V 4A |
寸法(o)
ドア開放時 |
550W×440H×400D
740H |
ステップ数 |
96ステップ スキップ・コピー機能付き
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| プログラムモード |
10モード |
重量 |
33s |
| プロセス(標準) |
現像液:1系統
リンス:1系統
バックリンス:1系統 |
主要オプション |
薬液温度管理システム
(加圧方式)
各種基板ホルダー
設置用作業台 |
| 使用薬液 |
酸系エッチング液 |
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※仕様は予告なく変更する事がございます。 |
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